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0510-88276101柔性卷繞鍍膜真空隔離技術
發(fā)布時間:2021-10-26瀏覽次數(shù):載入中...
目前柔性透明導電薄膜沉積技術已經(jīng)在觸摸屏行業(yè)普遍推廣,柔性透明導電膜通過卷繞鍍膜設備鍍制,柔性透明導電薄膜基材都是PET(Polyethylene terephthalate,聚對苯二甲酸乙二醇酯)等柔性材料。為攻克柔性卷繞鍍膜中生產(chǎn)完一卷膜后全部破真空產(chǎn)能低的難題,在柔性卷繞鍍膜設備放卷室和工藝真空室、收卷室和工藝真空室之間各增加一個隔離閥,這樣在生產(chǎn)完一卷膜材后只需對放卷室和收卷室進行破真空處理,縮減了工藝真空室的抽氣時間,提高生產(chǎn)產(chǎn)能。
濺射的先決條件就是真空,濺射鍍膜的基礎是輝光放電:低壓氣體中顯示輝光的氣體放電(空氣中的電子大概在1 000對/cm,由于高壓放電現(xiàn)象在低氣壓狀態(tài)下會產(chǎn)生輝光現(xiàn)象)現(xiàn)象,即稀薄氣體中的自持放電(自激導電)現(xiàn)象。指的是不依賴外界電離條件,由外施電壓作用即可維持的一種氣體放電。本司工藝是待設備本底真空度達到2.3×10-6hPa時,充入工藝氣體至工藝真空,打開陰極和傳動輥開始鍍膜;PET基材經(jīng)過等離子設備預處理后,工藝室的陰極依次鍍制SiOx、Nb2O5、SiO2、ITO膜系。
濺射鍍膜真空隔離技術:(1)上料,首先需關閉放卷室隔離閥對放卷室進氣,待放卷室達到1.0×103hPa時方可打開放卷室門并安裝卷材,卷材安裝完畢后,真空泵會對放卷室抽真空,當放卷室真空度達到一定數(shù)值時(放卷室與濺射鍍膜室真空度相當),放卷室隔離閥打開;此時放卷室、濺射鍍膜室同步抽真空。當本底真空≤2.3×10-6hPa時,方可通入濺射氣、工藝氣體進行生產(chǎn)制作。(2)卸料:一卷膜濺射鍍膜完畢后,關閉收卷室隔離閥對收卷室進氣,待放卷室達到1.0×103hPa時方可打開收卷室門,并卸料。卸料完畢后真空泵會對收卷室抽真空,當收卷室真空度達到一定數(shù)值時(收卷室與濺射鍍膜室真空度相當),收卷室隔離閥打開。(3)真空隔離閥:由硅膠管、固定管、抽氣泵電磁閥等組成。該裝置裝在卷繞鍍膜設備放卷室與工藝真空室、收卷室與工藝真空室之間。工作時是在需要進行真空密封時通過壓縮氣的充入使硅膠管膨脹,從而達到密封的效果,不需要密封時通過抽氣泵抽氣把硅膠管內(nèi)的壓縮氣抽離,從而達到打開的狀態(tài)。硅膠管采用整注的方式進行加工,表面光潔度可以保證,其次就是硅膠可以很規(guī)律的進行填充。如圖2所示。
圖2 鍍膜設備結(jié)構(gòu)示意圖
此工藝采用真空卷繞磁控濺射技術,具有以下特點:
① 濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好;
② 濺射所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好;
③ 能夠精確控制鍍層的厚度,同時可通過改變參數(shù)條件控制組成薄膜的顆粒大小。
隔離閥應用效果比較分析:(1)收、放卷室進氣時真空度變化,隔離閥使用前后,收、放卷室進氣時,濺射鍍膜室的真空度變化見圖3。
圖3 收、放卷室進氣時濺射鍍膜室的真空度變化
從圖3中可見,隔離閥使用后,收、放卷室進氣時,真空波動較小從2.6×10-6hPa升至6.3×10-6hPa然后減低到4.6×10-6hPa。中間鍍膜室真空也會出現(xiàn)波動,但是波動曲線平穩(wěn),真空度落點也相對較低。
(2)收、放卷室換卷后抽氣時真空變化,隔離閥使用前后,收、放卷室換卷后抽氣時,濺射鍍膜室的真空變化見圖4。
圖4 收、放卷室抽氣時濺射鍍膜室的真空變化
從圖4中可見,隔離閥使用后,收、放卷室抽氣時,中間鍍膜室真空起點低,抽氣時長22min左右真空從4.6×10-6hPa逐步減低到2.8×10-6hPa,圖中曲線對比,若濺射室真空達到鍍膜工藝真空點2.3×10-6hPa時,使用此隔離技術后每次抽氣時間可縮短15 min左右,每卷膜需收放卷室各進氣、抽氣一次,測每生產(chǎn)一卷膜可節(jié)約30 min時間。按每卷膜900 m、身纏速度4 m/min計算,可提升產(chǎn)能約13.33%。
ITO Film在國內(nèi)市場具有較大的發(fā)展空間,其市場份額在不斷擴大。對于國內(nèi)的ITO Film生產(chǎn)商,將是一個良好的發(fā)展契機。但ITO Film的市場競爭壓力也是非常之大,目前國內(nèi)ITO Film生產(chǎn)項目比比皆是;而且來自國外廠家的競爭更為明顯。國內(nèi)生產(chǎn)ITO Film的廠家較為明顯的劣勢是產(chǎn)品質(zhì)量以及設備產(chǎn)能。因此,要在ITO Film行業(yè)里提升自己的競爭力,就必須增加設備產(chǎn)能搶占市場份額,提高產(chǎn)品質(zhì)量開發(fā)具有較強性價比的ITO Film產(chǎn)品,才能在未來的競爭市場中獲勝。卷繞鍍膜設備采用此種裝置可以提高產(chǎn)能,達到降低生產(chǎn)成本的目的,而且中間工藝真空室在做完一卷膜后不需要進行破真空處理,也保證了真空環(huán)境從而達到提高產(chǎn)品質(zhì)量的目的。
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柔性ITO導電鍍膜生產(chǎn)流程見圖1
圖1 卷繞鍍膜生產(chǎn)流程圖
濺射的先決條件就是真空,濺射鍍膜的基礎是輝光放電:低壓氣體中顯示輝光的氣體放電(空氣中的電子大概在1 000對/cm,由于高壓放電現(xiàn)象在低氣壓狀態(tài)下會產(chǎn)生輝光現(xiàn)象)現(xiàn)象,即稀薄氣體中的自持放電(自激導電)現(xiàn)象。指的是不依賴外界電離條件,由外施電壓作用即可維持的一種氣體放電。本司工藝是待設備本底真空度達到2.3×10-6hPa時,充入工藝氣體至工藝真空,打開陰極和傳動輥開始鍍膜;PET基材經(jīng)過等離子設備預處理后,工藝室的陰極依次鍍制SiOx、Nb2O5、SiO2、ITO膜系。
濺射鍍膜真空隔離技術:(1)上料,首先需關閉放卷室隔離閥對放卷室進氣,待放卷室達到1.0×103hPa時方可打開放卷室門并安裝卷材,卷材安裝完畢后,真空泵會對放卷室抽真空,當放卷室真空度達到一定數(shù)值時(放卷室與濺射鍍膜室真空度相當),放卷室隔離閥打開;此時放卷室、濺射鍍膜室同步抽真空。當本底真空≤2.3×10-6hPa時,方可通入濺射氣、工藝氣體進行生產(chǎn)制作。(2)卸料:一卷膜濺射鍍膜完畢后,關閉收卷室隔離閥對收卷室進氣,待放卷室達到1.0×103hPa時方可打開收卷室門,并卸料。卸料完畢后真空泵會對收卷室抽真空,當收卷室真空度達到一定數(shù)值時(收卷室與濺射鍍膜室真空度相當),收卷室隔離閥打開。(3)真空隔離閥:由硅膠管、固定管、抽氣泵電磁閥等組成。該裝置裝在卷繞鍍膜設備放卷室與工藝真空室、收卷室與工藝真空室之間。工作時是在需要進行真空密封時通過壓縮氣的充入使硅膠管膨脹,從而達到密封的效果,不需要密封時通過抽氣泵抽氣把硅膠管內(nèi)的壓縮氣抽離,從而達到打開的狀態(tài)。硅膠管采用整注的方式進行加工,表面光潔度可以保證,其次就是硅膠可以很規(guī)律的進行填充。如圖2所示。
圖2 鍍膜設備結(jié)構(gòu)示意圖
此工藝采用真空卷繞磁控濺射技術,具有以下特點:
① 濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好;
② 濺射所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好;
③ 能夠精確控制鍍層的厚度,同時可通過改變參數(shù)條件控制組成薄膜的顆粒大小。
隔離閥應用效果比較分析:(1)收、放卷室進氣時真空度變化,隔離閥使用前后,收、放卷室進氣時,濺射鍍膜室的真空度變化見圖3。
圖3 收、放卷室進氣時濺射鍍膜室的真空度變化
從圖3中可見,隔離閥使用后,收、放卷室進氣時,真空波動較小從2.6×10-6hPa升至6.3×10-6hPa然后減低到4.6×10-6hPa。中間鍍膜室真空也會出現(xiàn)波動,但是波動曲線平穩(wěn),真空度落點也相對較低。
(2)收、放卷室換卷后抽氣時真空變化,隔離閥使用前后,收、放卷室換卷后抽氣時,濺射鍍膜室的真空變化見圖4。
圖4 收、放卷室抽氣時濺射鍍膜室的真空變化
從圖4中可見,隔離閥使用后,收、放卷室抽氣時,中間鍍膜室真空起點低,抽氣時長22min左右真空從4.6×10-6hPa逐步減低到2.8×10-6hPa,圖中曲線對比,若濺射室真空達到鍍膜工藝真空點2.3×10-6hPa時,使用此隔離技術后每次抽氣時間可縮短15 min左右,每卷膜需收放卷室各進氣、抽氣一次,測每生產(chǎn)一卷膜可節(jié)約30 min時間。按每卷膜900 m、身纏速度4 m/min計算,可提升產(chǎn)能約13.33%。
ITO Film在國內(nèi)市場具有較大的發(fā)展空間,其市場份額在不斷擴大。對于國內(nèi)的ITO Film生產(chǎn)商,將是一個良好的發(fā)展契機。但ITO Film的市場競爭壓力也是非常之大,目前國內(nèi)ITO Film生產(chǎn)項目比比皆是;而且來自國外廠家的競爭更為明顯。國內(nèi)生產(chǎn)ITO Film的廠家較為明顯的劣勢是產(chǎn)品質(zhì)量以及設備產(chǎn)能。因此,要在ITO Film行業(yè)里提升自己的競爭力,就必須增加設備產(chǎn)能搶占市場份額,提高產(chǎn)品質(zhì)量開發(fā)具有較強性價比的ITO Film產(chǎn)品,才能在未來的競爭市場中獲勝。卷繞鍍膜設備采用此種裝置可以提高產(chǎn)能,達到降低生產(chǎn)成本的目的,而且中間工藝真空室在做完一卷膜后不需要進行破真空處理,也保證了真空環(huán)境從而達到提高產(chǎn)品質(zhì)量的目的。
上一個:真空絕熱的方式
下一個:真空鍍膜技術與應用領域簡介
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