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PVD工藝你了解多少呢?

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真空涂層技術(shù)的發(fā)展 
一、真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長(zhǎng),國(guó)際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于 該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行(工藝溫度高于 1000oC),涂層種類單一,局限性很大,因此,其發(fā)展初期未免差強(qiáng)人意。 
二、到了上世紀(jì)七十年代末,開始出現(xiàn) PVD技術(shù),為真空涂層開創(chuàng)了一個(gè)充滿燦爛前景的新天地,之后在短短的二、三十年間PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展,究其原因,是因?yàn)槠湓谡婵彰芊獾那惑w內(nèi)成膜,幾乎無(wú)任何環(huán)境污染問題,有利于環(huán)保;因?yàn)槠淠艿玫焦饬?、華貴的表面,在顏色上,成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色,可謂五彩繽紛,能夠滿足裝飾性的各種需要;又由于 PVD 技術(shù),可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層,應(yīng)用在工裝、模具上面,可以使壽命成倍提高,較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高效益的效果;此外, PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn),幾乎可以在任何基材上成膜,因此,應(yīng)用范圍十分廣闊,其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了現(xiàn)在還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù),各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮,如今在這一領(lǐng)域中,已呈現(xiàn)出百花齊放,百家爭(zhēng)鳴的喜人景象。 
三、與此同時(shí),我們還應(yīng)該清醒地看到,真空涂層技術(shù)的發(fā)展又是嚴(yán)重不平衡的。由于刀具、模具的工作環(huán)境極其惡劣,對(duì)薄膜附著力的要求,遠(yuǎn)高于裝飾涂層。因而,盡管裝飾涂層的廠家已遍布各地,但能夠生產(chǎn)工模涂層的廠家并不多。再加上刀具、模具涂層售后服務(wù)的欠缺,到目前為止,國(guó)內(nèi)大多數(shù)涂層設(shè)備廠家都不能提供完整的刀具涂層工藝技術(shù)(包括前處理工藝、涂層工藝、涂后處理工藝、檢測(cè)技術(shù)、涂層刀具和模具的應(yīng)用技術(shù)等),而且,它還要求工藝技術(shù)人員,除了精通涂層的專業(yè)知識(shí)以外,還應(yīng)具有扎實(shí)的金屬材料與熱處理知識(shí)、工模涂層前表面預(yù)處理知識(shí)、刀具、模具涂層的合理選擇以及上機(jī)使用的技術(shù)要求等,如果任一環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題,都會(huì)給使用者產(chǎn)生使用效果不理想這樣的結(jié)論。所有這些,都嚴(yán)重制約了該技術(shù)在刀具、模具上的應(yīng)用。 
四、 另一方面,由于該技術(shù)是一門介乎材料學(xué)、物理學(xué)、電子、化學(xué)等學(xué)科的新興邊緣學(xué)科,而國(guó)內(nèi)將其應(yīng)用于刀具、模具生產(chǎn)領(lǐng)域內(nèi)的為數(shù)不多的幾個(gè)骨干廠家,大多走的也是一條從國(guó)外引進(jìn)先進(jìn)設(shè)備和工藝技術(shù)的路子,尚需一個(gè)消化、吸收的過程,因此,國(guó)內(nèi)目前在該領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)力量與其發(fā)展很不相稱,急需奮起直追。   
五、PVD (Physical Vapor Deposition) 分為:真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常說(shuō)的NCVM鍍膜,就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。
六、真空蒸鍍基本原理:在真空條件下,使金屬、金屬合金等蒸發(fā),然后沉積在基體表面上,蒸發(fā)的方法常用電阻加熱,電子束轟擊鍍料,使蒸發(fā)成氣相,然后沉積在基體表面,歷史上,真空蒸鍍是PVD法中使用**的技術(shù)。

七、濺射鍍膜基本原理:充氬(Ar)氣的真空條件下,使氬氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar ),氬離子在電場(chǎng)力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。 濺射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī),沉積的膜易于均勻。
八、離子鍍基本原理:在真空條件下,采用某種等離子體電離技術(shù),使鍍料原子部分電離成離子,同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。
九、離子鍍的工藝過程:蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。
十、離子鍍的作用過程如下:
蒸發(fā)源接陽(yáng)極,工件接陰極,當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣,在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí),則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡(jiǎn)單作用過程。
三種鍍膜方式的比較:

PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟
(1)清洗工件:接通直流電源,氬氣進(jìn)行輝光放電為氬離子,氬離子轟擊工件表面,工件表層粒子和臟物被轟濺拋出;
(2)鍍料的氣化:即通入交流電后,使鍍料蒸發(fā)氣化。 
(3)鍍料離子的遷移:由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場(chǎng)后,高速?zèng)_向工件; 
(4)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積:工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí),則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能,高速轟擊工件時(shí),不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。
十一、PVD 涂層的基本概念及其特點(diǎn) 
較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機(jī)電源供電即可工作,其引弧的過程也與電焊類似,具體地說(shuō),在一定工藝氣壓下,引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸,斷開,使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑,在蒸發(fā)源表面上連續(xù)形成熔池,使金屬蒸發(fā)后,沉積在基體上而得到薄膜層的,與磁控濺射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金屬離子離化率高,薄膜與基體之間結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。此外,多弧鍍涂層顏色較為穩(wěn)定,尤其是在做 TiN 涂層時(shí),每一批次均容易得到相同穩(wěn)定的金黃色,令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是,在用傳統(tǒng)的 DC 電源做低溫涂層條件下,當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm 時(shí),沉積率與反射率接近,成膜變得非常困難。而且,薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是,由于金屬是熔后蒸發(fā),因此沉積顆粒較大,致密度低,耐磨性比磁控濺射法成膜差。 
可見,多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣,為了盡可能 地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性,實(shí)現(xiàn)互補(bǔ),將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底,然后利用磁控濺射法增厚涂層,再利用多弧鍍達(dá)到穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。 
大約在八十年代中后期,出現(xiàn)了熱陰極電子蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機(jī),應(yīng)用效果很好,使TiN 涂層刀具很快得到普及性應(yīng)用。其中熱陰極電子蒸發(fā)離子鍍,利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料,利用鉭燈絲給工件加熱、除氣,利用電子增強(qiáng)離化率,不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂層,而且其結(jié)合力、耐磨性均有不俗表現(xiàn),甚至用打磨的方法都難以除去。但是這些設(shè)備都只適合于 TiN涂層,或純金屬薄膜。對(duì)于多元涂層或復(fù)合涂層,則力不從心,難以適應(yīng)高硬度材料高速切 削以及模具應(yīng)用多樣性的要求。 
目前,一些發(fā)達(dá)國(guó)家(如德國(guó) CemeCon、英國(guó) ART-TEER、 瑞士 Platit)在傳統(tǒng)的磁控濺射原理基礎(chǔ)上,用非平衡磁場(chǎng)代替原先的平衡磁場(chǎng)、50KHz 的中頻電源代替原來(lái)的直流電源、脈沖電源取代以往的直流偏壓,采用輔助的陽(yáng)極技術(shù)等,使磁控濺射技術(shù)逐步成熟,已大批量應(yīng)用在工模涂層上,現(xiàn)在已穩(wěn)定生產(chǎn)的涂層主要有 TiAlN、AlTiN、TiB2、DLC、CrN,我國(guó)廣東、江蘇、貴州、株洲等地也已陸續(xù)引進(jìn)此種設(shè)備,大有星火燎原之勢(shì)。 
十二、PVD流程圖

PVD加工特點(diǎn)
1).PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上,對(duì)比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻,然后才適合鍍PVD,但是水鍍后做PVD容易起泡,不良率較高;
2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間;
3).涂層種類和厚度決定工藝時(shí)間,一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí);
4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能,并能夠維持工件尺寸基本不變
,鍍后不須再加工;
5).PVD技術(shù)不僅提高了鍍膜與基體材料的結(jié)合強(qiáng)度,涂層成分也由一代的TiN發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復(fù)合涂層,形成不同的顏色的表面效果。
6).目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù),可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。
PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類:裝飾鍍和工具鍍:
裝飾鍍的目的:主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤,同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕延長(zhǎng)其使用壽命;這方面主要應(yīng)用五金行業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域,如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。
工具鍍的目的:主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系數(shù),提高工件的使用壽命;這方面主要應(yīng)用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等)等產(chǎn)品中。
雖然使用PVD鍍膜技術(shù)能夠鍍出品質(zhì)高的膜層,但是PVD鍍膜過程的成本其實(shí)并不高,它是一種性價(jià)比非常高的表面處理方式,所以近年來(lái)PVD鍍膜技術(shù)發(fā)展得非???。PVD鍍膜已經(jīng)成為五金行業(yè)表面處理的發(fā)展方向。
 
十三、PVD優(yōu)點(diǎn)
1. 鍍層附著性能好
普通真空鍍膜時(shí),在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時(shí),離子高速轟擊工件時(shí),能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,對(duì)離子鍍后的
試件作拉伸試驗(yàn)表明,一直拉到快要斷裂時(shí),鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無(wú)起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見附著多么牢固,膜層均勻,致密。
2. 繞鍍能力強(qiáng)
離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng),因而凡是有電場(chǎng)存在的部位,均能獲得良好鍍層,這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此,這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣,只能順梯而上;而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中,帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī),能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。
3. 鍍層質(zhì)量好
離子鍍的鍍層組織致密、無(wú)氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù),不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復(fù),有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),膜層的壽命更長(zhǎng)
;同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能
4. 清洗過程簡(jiǎn)化
現(xiàn)有鍍膜工藝,多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗,既復(fù)雜又費(fèi)事。然而,離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過程。清洗效果好,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強(qiáng)了附著力,簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。
5. 可鍍材料廣
離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能,從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而,整個(gè)工件,特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣,受到的
局限性則較小。通常,各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬,也可在非金屬上鍍金屬或非金屬,甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。
 
雙色PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)
其應(yīng)用范圍是:
 1)碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料;
 2)金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
其優(yōu)點(diǎn)是:
與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比,雙色PVD工藝更為復(fù)雜,流程更為繁雜,生產(chǎn)難度高,但外觀效果較好,兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。
傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果,采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來(lái)的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色,表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---
HV200左右(而PVD后的表面硬度為HV600以上)。 
其缺點(diǎn)是:
1)工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復(fù)雜,流程更為繁雜,生產(chǎn)難度高;
2)生產(chǎn)良率低,大約為65~70%(傳統(tǒng)單色PVD的生產(chǎn)良率一般為85~90%;
3)價(jià)格會(huì)比傳統(tǒng)單色PVD的高50~60%;
4)因工藝和流程的影響,雙色PVD生產(chǎn)限制較多,受產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的影響較大,而傳統(tǒng)單色PVD則幾乎不受限制
現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測(cè)量技術(shù)、非平衡磁控濺 射技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現(xiàn)代涂層設(shè)備主要由真空室、真空獲得部分、真空測(cè)量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)部分、加熱及測(cè)溫部件、離子蒸發(fā)或?yàn)R射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。 
1真空室
涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式,由于工模涂層對(duì)加熱及機(jī)械傳動(dòng)部分有較高要求,而且工模形狀、尺寸千差萬(wàn)別,連續(xù)涂層生產(chǎn)線通常難以滿足要求,須采用單室涂層機(jī)。 
2 真空獲得部分
在真空技術(shù)中,真空獲得部分是重要組成部分。由于工模件涂層高附著力的要求,其涂層工藝開始前背景真空度需要高于6mPa,涂層工藝結(jié)束后真空度甚至可達(dá) 0.06mPa 以上,因此合 理選擇真空獲得設(shè)備,實(shí)現(xiàn)高真空度至關(guān)重要。 
就目前來(lái)說(shuō),還沒有一種泵能從大氣壓一直工作到接近超高真空。因此,真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達(dá)到的,必須將幾種泵聯(lián)合使用,如機(jī)械泵、分子泵系統(tǒng)等。 
3 真空測(cè)量部分
真空系統(tǒng)的真空測(cè)量部分,就是要對(duì)真空室內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行測(cè)量。像真空泵一樣,沒有一種真空計(jì)能測(cè)量整個(gè)真空范圍,人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計(jì)。 
4 電源供給部分
靶電源主要有直流電源(如 MDX)、中頻電源(如美國(guó) AE公司生產(chǎn)的 PE、PEII、PINACAL);工件本身通常需加直流電源(如 MDX)、脈沖電源(如美國(guó)AE公司生產(chǎn)的 PINACAL+)、或射頻電源(RF)。 
5 工藝氣體輸入系統(tǒng)
工藝氣體,如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮?dú)?N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應(yīng),經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計(jì)、電磁閥、壓電閥,然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是,管路簡(jiǎn)捷、明快,維修或更換氣瓶容易。各涂層機(jī)之間互不影響。也有多臺(tái)涂層機(jī)共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機(jī)會(huì)看到。它的好處是,減少氣瓶占用量,統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點(diǎn)是,由于接頭增多,使漏氣機(jī)會(huì)增加。而且,各涂層機(jī)之間會(huì)互相干擾,一臺(tái)涂層機(jī)的管路漏氣,有可能會(huì)影響到其他涂層機(jī)的產(chǎn)品質(zhì)量。此外,更換氣瓶時(shí),必須保證所有主機(jī)都處于非用氣狀態(tài)。 
6 機(jī)械傳動(dòng)部分
刀具涂層要求周邊必須厚度均勻一致,因此,在涂層過程中須有三個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量才能滿足要求。即在要求大工件臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)(I)的同時(shí),小的工件承載臺(tái)也轉(zhuǎn)動(dòng)( II),并且工件本身還能同時(shí)自轉(zhuǎn)(III)。
在機(jī)械設(shè)計(jì)上,一般是在大工件轉(zhuǎn)盤底部中間為一大的主動(dòng)齒輪,周圍是一些小的星行輪與之嚙合,再用撥叉撥動(dòng)工件自轉(zhuǎn)。當(dāng)然,在做模具涂層時(shí),一般有兩個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量就足夠了,但是齒輪可承載量必須增強(qiáng)。 
7 加熱及測(cè)溫部分 
做工模涂層的時(shí)候,如何保證被鍍工件均勻加熱比裝飾涂層加熱要重要得多。工模涂層設(shè)備一般均有前后兩個(gè)加熱器,用熱電偶測(cè)控溫度。但是,由于熱電偶裝夾的為置不同,因而,溫度讀數(shù)不可能是工件的真實(shí)溫度。要想測(cè)得工件的真實(shí)溫度,有很多方法,這里介紹一種簡(jiǎn)便易行的表面溫度計(jì)法 (Surface Thermomeer)。該溫度計(jì)的工作原理是,當(dāng)溫度計(jì)受熱,底部的彈簧將受熱膨脹,使指針推動(dòng)定位指針旋轉(zhuǎn),直到*高溫度。降溫的時(shí)候,彈簧收縮,指針反向旋轉(zhuǎn),但定位指針維持在溫度位置不動(dòng),開門后,讀取定位指針指示的溫度,即為真空室內(nèi)加熱時(shí),表面溫度計(jì)放置位置所曾達(dá)到的*高溫度值。 
8 離子蒸發(fā)及濺射源 
多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形,俗稱圓餅靶,近幾年也出現(xiàn)了長(zhǎng)方形的多弧靶,但未見有明顯效果。圓餅靶裝在銅靶座(陰極座)上面,兩者為羅紋連接。靶座中裝有磁鐵,通過前后移動(dòng)磁鐵,改變磁場(chǎng)強(qiáng)度,可調(diào)整弧斑移動(dòng)速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度,要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性,還可以在靶與靶座之間加錫(Sn)墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長(zhǎng)方形或圓柱形靶材, 
9 水冷系統(tǒng) 
因?yàn)楣つM繉訒r(shí),為了提高金屬原子的離化率,各個(gè)陰極靶座都盡可能地采用大的功率輸出,需要充分冷卻;而且,工模涂層中的許多種涂層,加熱溫度為 400~500oC,因此,對(duì)真空室壁、對(duì)各個(gè)密封面的冷卻也很重要 , 所以冷卻水采用18~20oC 左右的冷水機(jī)供水。 
為了防止開門后,低溫的真空室壁、陰極靶與熱的空氣接觸析出水珠,在開門前的10 分鐘左右,水冷系統(tǒng)應(yīng)有能力切換到供熱水狀態(tài),熱水溫度約40~45oC。 

十四、工模具PVD 的工作步驟 
工模具 PVD 基本工藝流程可簡(jiǎn)述為:IQC→前處理→PVD→FQC,分別介紹如后。 
1 IQC 
IQC(InQuality Control)的主要工作除了常規(guī)的清點(diǎn)數(shù)量 ,檢查圖紙與實(shí)物是否相符外,還須仔細(xì)檢查工件表面,特別是刃口部位有無(wú)裂紋等缺陷。有時(shí)對(duì)于一些刀具、刀粒的刃口,在體式顯微鏡下觀察,更方便發(fā)現(xiàn)問題;另外,IQC 的人員還要注意檢查待鍍膜件有無(wú)塑膠、低熔點(diǎn)的焊料等,這些東西如果因漏檢而混入鍍膜程序,則將在真空室內(nèi)嚴(yán)重放氣,輕者造成整批產(chǎn)品脫涂層,重者使原本 OK 的產(chǎn)品報(bào)廢,后果不堪設(shè)想。 
2 前處理工藝(蒸汽噴砂、拋光、清洗) 
前處理的目的是凈化或粗化工件表面。 凈化就是要去除各種表面玷污物,制備潔凈表面。通常使用各種凈化劑,借助機(jī)械、物理或化學(xué)的方法進(jìn)行凈化。 
粗化與光蝕相反,其目的在于制備粗糙的表面以提高噴涂 層或涂料裝飾的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。 
我們現(xiàn)在已有的前處理主要方法為:高溫蒸洗、清洗、噴砂、打磨、拋光等方法。 
高溫蒸洗
目前,PVD 車間常用的高溫蒸洗設(shè)備是蒸汽。它的工作溫度可達(dá) 145度,氣壓在 3~5 巴左右。由于模具中經(jīng)常帶有一些細(xì)小孔、螺紋孔,孔內(nèi)中常常有油污、殘余冷卻液等雜質(zhì),用常規(guī)清洗的方法難以除去。此時(shí),高溫蒸洗設(shè)備便可大程度的發(fā)揮它的優(yōu)越性。 
清洗 
十五、各廠工模涂層前清洗程序大致如下: 
1.超聲波除蠟→2.過水→3. 超聲波除油→4.過水→5. 超聲波自換→6.過水→7.過純水→8.強(qiáng)風(fēng)干燥
具體實(shí)施時(shí),與我們所熟悉的裝飾涂層前的清洗又有許多不同。這是因?yàn)檠b飾涂層的底材大多為不銹鋼或鈦合金,不容易生銹。此外,裝飾涂層對(duì)水印、點(diǎn)痣等缺陷是不允許的。因此,裝飾涂層對(duì)純水的水質(zhì)要求極高,甚至要達(dá)到 15MΩ 以上。要保證清洗的高質(zhì)量,可以通過反復(fù)清洗,并在高質(zhì)量的純水加超聲波中長(zhǎng)時(shí)間浸泡來(lái)得到。但是,工模的清洗就不同,尤其是一些熱做模具鋼,如果像裝飾涂層那樣去清洗,就會(huì)銹得一塌糊涂。 
由于工模涂層的原始表面狀態(tài),除了一些高標(biāo)準(zhǔn)的鏡面模具以外,一般較裝飾涂層要粗糙,因而,對(duì)涂層后的表面狀態(tài)的要求也不象裝飾涂層那樣高,這就允許我們采取快速過水,用干燥、無(wú)油的壓縮空氣吹干,然后對(duì)工模強(qiáng)風(fēng)干燥的方法來(lái)處理。而那些高標(biāo)準(zhǔn)的鏡面模具,一般均為136 等不銹鋼,可以借用裝飾涂層的清洗法。
總而言之,工模涂層前的清洗方法因工模所使用的材料的不同而不同,因工模涂層前的表面狀態(tài)的不同而不同,且不可千篇一律。下面是幾種材料生銹由難到易的排序,供參考:
不銹鋼、硬質(zhì)合金、金屬陶瓷合金、DC53、高速鋼、8407 有一種自動(dòng)清洗機(jī)型號(hào)為 CR288,產(chǎn)自德國(guó)。該機(jī)一次清洗量為 80KG,主要用于清洗刀具、小型零部件、或小尺寸的模具。它共有三個(gè)清洗缸,里面的溶液分別為自來(lái)水+清洗劑、自來(lái)水、去離子水。除了常見的超聲波、大水沖洗、噴淋、擺動(dòng)、熱風(fēng)干燥等功能外,該機(jī)另外一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是*后設(shè)有抽真空步驟,可以使水分盡快揮發(fā)掉。
自動(dòng)清洗機(jī)內(nèi)存十種工藝,均由供方預(yù)先設(shè)定。一至九可分別用于不同類型的產(chǎn)品、不同的表面狀態(tài)的凈化處理。第十種用于加注清洗劑。 
噴砂
噴砂法是借助壓縮空氣使磨料強(qiáng)力沖刷工件表面,從而去除銹蝕、積碳、焊渣、氧化皮、殘鹽、舊漆層等表面缺陷。按磨料使用條件,噴砂分為干噴砂與濕噴砂兩類。
噴砂的工藝參數(shù)主要有傾角、裝夾臺(tái)旋轉(zhuǎn)速度、移動(dòng)速度、行程、往返次數(shù)、噴砂時(shí)間、噴砂氣壓。我們已使用過的參數(shù)有槍距:30~70mm; 傾角 30~70?C; 裝夾臺(tái)旋轉(zhuǎn)速度 10~30;往返次數(shù) 3~9 次;噴砂氣壓:1.8~3.5 巴等。具體操作時(shí),根據(jù)工件表面臟污程度,工件硬度,工件表面幾何形狀等因素,選取上下限。我們?cè)诟蓢娚皺C(jī)中所選用的磨料為玻璃珠,適合噴一些硬度介中的材料,如油鋼、模具等;在液體噴砂機(jī)中所選用的磨料為氧化鋁,硬度較高,適合噴一些硬度高的材料,如硬質(zhì)合金材料。對(duì)于工模涂層而言,噴砂所使用的磨料粒度也很重要。如果磨料粒度過大,則工件表面太粗糙;如果磨料粒度太小,又會(huì)降低打擊力度,甚至嵌在工件表面,清洗難以去除,從而使工件涂層附著力降低。為此,歐洲一些國(guó)家,對(duì)工模涂層前噴砂所用磨料粒度做過仔細(xì)研究,嚴(yán)格到必須保證 85%以上的晶粒度在中 A、B 兩點(diǎn)范圍內(nèi)才能使用。相比之下,我國(guó)磨料的供應(yīng)商還缺乏這方面的共識(shí),我們也很少有做這方面的檢驗(yàn)。 
PVD 涂層工藝(加熱、離子清洗、涂層、冷卻、工藝氣體、氣壓、溫度、濺射功率) 
FQC 
FQC 的英文全拼為:“Function Quality Control”,意思是功能 質(zhì) 量 控 制 , 它有別與一般意義上的 OQC(Out Quality Control) 。FQC 的內(nèi)容主要包括外觀檢查、層深檢查、附著力檢查、耐磨性檢查、抗蝕性檢查、模擬性測(cè)試等方法。我廠目前應(yīng)用的主要有外觀檢查、層深檢查和附著力檢查。
由于我們所接觸的產(chǎn)品大多都是不允許做破壞性檢查的,因而我們?cè)阱兡r(shí),每批都會(huì)放進(jìn)隨批試樣。做層深檢查和附著力檢查的時(shí)候,大多數(shù)情況下,實(shí)際上是對(duì)隨批試樣進(jìn)行檢查。因?yàn)樵嚇优c產(chǎn)品在原材料、熱處理狀態(tài)、裝夾位置等方面都難于一致,所以這樣檢測(cè)出的結(jié)果,與產(chǎn)品實(shí)際值會(huì)有一定的誤差。有時(shí)可能還會(huì)有相當(dāng)大的誤差,只能做參考使用。當(dāng)然,必要的時(shí)候,我們也可以通過制作模擬件,達(dá)到準(zhǔn)確測(cè)量的目的。 
外觀檢查
對(duì)于開門取件后的產(chǎn)品,應(yīng)仔細(xì)檢查表面有無(wú)裂紋、掉涂層、疏松等缺陷。對(duì)于刀具、刀粒,還需在顯微鏡下仔細(xì)檢查它們的刃口狀態(tài)。 
層深檢查
層深檢查有切片金相觀察法、X-ray檢查法、用單色光做光源的光學(xué)測(cè)試法、球磨儀測(cè)試法等多種方法。工模涂層的層深檢查是在球磨儀上進(jìn)行的。方法是先用直徑為 10mm 的鋼球與測(cè)試表面滾磨,然后在顯微鏡下測(cè)量磨痕的有關(guān)數(shù)據(jù),帶入公式中,即可方便算出層深。
這種層深檢查法的特點(diǎn)是:方便適用,誤差稍大。但這種誤 差應(yīng)用于工模上面影響不會(huì)太大。有興趣的同事還可參閱有關(guān)的說(shuō)明書。
附著力的檢查方法有很多,各個(gè)廠根據(jù)自己產(chǎn)品的特點(diǎn),都制定了相應(yīng)的檢測(cè)方法。其中,比較嚴(yán)格的方法有兩種,一種是在洛氏硬度計(jì)上,以圓錐型金剛石壓頭做壓痕試驗(yàn),在顯微鏡下觀察,以壓痕周邊裂紋的多少來(lái)判斷涂層附著力的高低。該方法對(duì)金剛石壓頭的形狀要求很高,不但嚴(yán)格要求中心點(diǎn)在圓的中心,而且金剛石圓錐的圓度必須十分規(guī)則。遺憾的是,目前,我國(guó)還沒有它的國(guó)家或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn);另一種方法是劃痕法,我國(guó)有些涂層發(fā)起較早的科研部門,也是采用的該方法,有專門的國(guó)家行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)可供查詢。 
工裝夾具的處理 
涂后處理工藝(噴砂、涂脂技術(shù)) 
檢測(cè)技術(shù)(結(jié)合力的檢測(cè)、層深的檢測(cè)、酸蝕) 
涂層剝離技術(shù)(TiN/TiAlN的剝離技術(shù)、CrN/DLC/CrAlTiN 的剝離技術(shù)、硬質(zhì)合金的表面涂層剝離技術(shù)) 
涂層刀具的應(yīng)用技術(shù)(涂層的正確選擇、涂層刀具的正確使用 
涂層對(duì)刀具的優(yōu)化非常大,由于高速切削加工比傳統(tǒng)切削 加工所產(chǎn)生的溫度要高,應(yīng)用涂層,可以發(fā)揮其耐高溫、抗氧化及加硬材質(zhì)等作用。例如,氮化鉻(CrN)涂層可降低磨擦系數(shù),改善光潔度及排屑情況。
 
十六、主要技術(shù)要求規(guī)范
1、在黑色、銀色、金色、普通的玫瑰色等傳統(tǒng)常規(guī)顏色之間進(jìn)行雙色PVD配對(duì)選擇; 
2、不允許在3D面上或者3D面之間進(jìn)行雙色PVD配對(duì)處理; 
3、可以在2D平面結(jié)構(gòu)上進(jìn)行雙色PVD設(shè)計(jì);
4、就目前的技術(shù)條件而言,限于普通常規(guī)顏色,比如黑色、銀色、金色、普通的玫瑰色。在黑色、銀色、金色、普通的玫瑰色等傳統(tǒng)常規(guī)顏色之間進(jìn)行雙色PVD配對(duì)選擇;
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